製品の詳細
独自の表面精度で、業界を問わず使用されている細かい研磨シート。研磨作業において、シリカゾルナノ球形材料は理想的な研磨液として使用され、結果として得られた研磨シートの表面はミラーのように滑らかで、例えば結晶材料、宝石、光学レンズ、精密セラミックスの表面研磨である。
高度に集積化された現代の電子部品では、基体上に高度に精密な平面化表面を有し、シリカゾルナノ球形粒子を研磨液とし、微細平面化プロセスを容易に製造できるプロセスにすることが求められている。
当社は長期にわたりナノサイズ材料の生産と研究開発に従事し、先進的な生産プロセスの各検査手段を持ち、製造したナノサイズ研磨材料は品質が安定し、純度が高い。広範な顧客に5〜100ナノメートルの粒子直径、濃度10〜50%の研磨液を提供することができる。このシリーズ製品はウエハ、半導体、サファイア、光学レンズなどの材料表面微細化加工に広く応用されている。
品名 | 特徴 | 用途 | 説明 |
X10
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5-6nm
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ウェハ、宝石、レンズ | 極小粒子、微細研磨 |
P20
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20-30nm
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半導体、光学レンズ、サファイア | 粗投げ、中除去率 |
P50
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40-60nm
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ウェハ、宝石、レンズ | 粗投げ、中除去率 |
P80
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60-80nm
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半導体、光学レンズ、サファイア | 粗投げ、中除去率 |
P100
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80-100nm
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半導体、光学レンズ、サファイア | 粗投げ、中除去率 |
以上の製品の含有量は20-50%を選択することができ、顧客は自分の要求に応じて5%KOH溶液を添加してpH値または5%HCl溶液を調節することができ、同時に純水で必要な割合に希釈することができる。
賞味期限:1年
キーワード
製品の用途
けんまざいりょう